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①受入檢查

對受取部件的來(lái)料品質(zhì)進(jìn)行檢查并把品質(zhì)不良情況及相關(guān)不良照片及時(shí)反饋給客戶(hù)。

②化學(xué)清洗

把部件泡入藥液中進(jìn)行化學(xué)清洗以去除表面沉積物。要點(diǎn)：陶瓷、石英類(lèi)貴重或易碎部件的移動(dòng)運輸必須使用專(zhuān)用保護周轉車(chē)；部品放在槽體內必須用治具適當保護。

③純水浸泡

將部件放入純水中漂洗或浸泡以去除殘留藥水。

④中和

用藥水中和掉部件上殘留的藥水和金屬粒子；以更加徹底地去除部品表面殘留的藥液和金屬粒子。

⑤純水浸泡

用純水浸泡方法把部品上殘留微量的藥水去除。

⑥高壓水沖洗

去除孔內殘留污漬及顆粒物。

⑦超聲波清洗

用純水超音波清洗方法把部品上殘留的微粒子清洗掉。

⑧預干燥、吹干

去除部件表面水分，已便于最終干燥。

⑨最終干燥

將部件放在專(zhuān)用周轉車(chē)上，推進(jìn)干燥箱，按照工藝要求對產(chǎn)品進(jìn)行干燥。

⑩品質(zhì)檢查

對部件外觀(guān)、螺孔、表面粗糙度、particle等進(jìn)行檢查確認。

?真空包裝

對最終品質(zhì)檢查OK的部件做氣槍吹掃后進(jìn)行真空包裝。

?裝箱

將部件放入專(zhuān)用周轉箱內。

注意：1.按標識區分各廠(chǎng)家周轉箱；2.裝箱前周轉箱表面必須保證  干凈無(wú)粉塵。

陶瓷熔射技術(shù)：將高純陶瓷通過(guò)等離子體熔射在零件上形成coating層，提高部件在各種Plasma Gas，尤其是以防止因F離子環(huán)境下等引起的部件腐蝕。我司2017年開(kāi)始拓展陶瓷熔射業(yè)務(wù)，2019年成立公司陶瓷熔射事業(yè)部，批量導入TFT-LCD，OLED，半導體 熔射再生業(yè)務(wù)。

等離子噴涂原理圖示

Y2O3 Coating系統介紹：

1.  世界領(lǐng)先的進(jìn)口三電極等離子噴涂設備

2.  6軸的機械手臂自動(dòng)化操作方式

3.  3m × 2.5m操作平臺

Y2O3 Coating 粉體介紹

我司主要使用日本著(zhù)名企業(yè)生產(chǎn)的氧化釔球體作為噴涂材料，通過(guò)掃描電鏡觀(guān)察，該系列球體更圓整，更規則非常適合用等離子熱噴涂。

特點(diǎn)：

1.產(chǎn)品粒徑分布集中，噴涂性能穩定。

2.純度高，且穩定。

3.規?；a(chǎn)，在光電行業(yè)有大量的實(shí)用案列。

Y2O3 Coating 性能介紹（結合力）

Y2O3 Coating 性能介紹（硬度）

Y2O3 Coating 性能介紹（孔隙率）

Y2O3 Coating 性能指標總覽：

Y₂O₃ Coating 在光電行業(yè)應用范圍

在鋁母材上制備Y₂O₃ 涂層（Al+陽(yáng)極氧化+ Y₂O₃涂層）

在陶瓷母材上制備Y2O3 涂層（陶瓷+涂層）

獨特的清洗劑配方，最大限度控制部件腐蝕問(wèn)題，提高客戶(hù)使用次數。

性能測試

氧化55-65um耐電壓（kv）

膜厚測試標準50±5um

參照標準LAM實(shí)驗方法，對產(chǎn)品進(jìn)行耐HCl的Bubble Test，判定標準為大于120min

原廠(chǎng)電極板數據測量

測量指標

耐擊穿電壓（≥3.0KV）（測試條件：Ac漏電流2mA）

粗糙度Ra=（0.2-0.4）um

膜厚（50-55）um

我司陽(yáng)極電極板數據測試

說(shuō)明：我司目前采用新工藝獲取的陽(yáng)極膜性能指標和原廠(chǎng)相比較為接近吻合。

陽(yáng)極氧化新工藝應用在 大尺寸LCD（G8.5以上） ，OLED G 6.0， LTPS 主要解決大功率，高腐蝕氣氛刻蝕過(guò)程中，氧化層耐蝕性不足的問(wèn)題。

目前大尺寸LCD（G8.5以上） ，OLED G 6.0 ， LTPS 的陽(yáng)極氧化 以及 陽(yáng)極氧化+Coating 均采用此工藝，反饋良好。

注：部件不同，流程會(huì )有相應調整。

熔射產(chǎn)品 （使用后）的清洗，包括去除有機膠類(lèi)、金屬化蝕刻產(chǎn)物，最終潔凈清洗。

我司具備的優(yōu)勢：

1.10年以上的光電行業(yè)的parts 清洗經(jīng)驗，

2.在半導體方面 掌握 Lam Research 14、28nm的洗凈技術(shù)，具備將半導體ETCH先進(jìn)清洗技術(shù)向光電行業(yè)導入的條件。

目前在OLED，LCD 陶瓷熔射產(chǎn)品在，在積極的開(kāi)發(fā)清洗工藝，嘗試通過(guò)清洗再生的方法，去除熔射層附著(zhù)污染物 ，同時(shí)盡可能減少對熔射層的損耗，降低客戶(hù)PM成本。

針對 對particle 較為敏感的部件（如上電級），我司在100級無(wú)塵室作業(yè)，清洗，干燥，包裝的環(huán)境的particle 水平大大降低，降低了部件重新粘附particle的風(fēng)險。